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晶圆low-k层激光开槽设备

利用激光对晶圆切割道进行开槽,带Low-k膜的晶圆的刀轮切割存在脱层问题。通过使用激光开槽,可抑制脱层,实现高质量加工。

  • 咨询电话:400 8017 001
  • 电子邮箱:contact@uipath-dojo.com

■ 设备参数:

设备能力

加工方式

激光开槽

激光器

贝林/SP

适用产品

Low-K/CMOS等半导体晶圆

激光类型

紫外皮秒(波长355nm)

开槽深度

≥10μm

激光能量

≥30W

开槽速度

0~1000mm/s

加工频率

Narrow:2000KHz;Wide:500KHz

开槽方式

Dual   narrow + Dual wide

冷却方式

水冷(冷却介质:蒸馏水)

开槽检测

宽度检测

激光寿命

≥20000h



■ 应用领域:

  设备兼容Low-K/CMOS等半导体晶圆产品自动作业。



■ 加工效果示例图:

     



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